常見雜質主要來源于噴粉環境中的顆粒，以及其他各種因素引起的雜質，現概括如下。
(1)固化爐內雜質。解決方法是用濕布和吸塵器清潔固化爐的內壁，重點是懸掛鏈和風管縫隙處。如果是黑色大顆粒雜質就需要檢查送風管濾網是否有破損處，有則及時更換。!
(2)噴粉室內雜質。主要是灰塵、衣物纖維、設備磨粒和噴粉系統積垢。解決方法是每天開工前使用壓縮空氣吹掃噴粉系統，用濕布和吸塵器清潔噴粉設備和噴粉室。
(3)懸掛鏈雜質。主要是懸掛鏈擋油板和一次吊具接水盤(材質為熱鍍鋅板)被前處理酸、堿蒸氣腐蝕后的產物。解決方法是定期清理這些設施! }.
(4)粉末雜質。主要是粉末添加劑過多、顏料分散不均、粉末受擠壓造成的粉點等。解決方法是提高粉末質量，改進粉末儲運方式。
(5)前處理雜質。主要是磷化渣引起的大顆粒雜質和磷化膜黃銹引起的成片小雜質。解決方法是及時清理磷化槽和噴淋管路內積渣，控制好磷化槽液濃度和比例。
(6)水質雜質。主要是前處理所使用的水中含砂量、含鹽量過大引起的雜質。解決方法是增加水過濾器，使用純水做為兩級清洗水。
高真空方法 ：
真空鍍vacuum plating 真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較產品的功能性鍍層，例如作為內部屏蔽層使用。
(1)真空蒸發鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結合的金屬或非金屬覆蓋層的過程稱為真空蒸發鍍，簡稱真空鍍或蒸發鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。
(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強電場作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過程稱為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。
(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發源蒸出的粒子，經過輝光放電區部分電離，通過擴散和電場作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結合鍍覆層的過程稱為離子鍍，如鍍氮化鈦等。
(4)化學氣相鍍 在低壓下，利用氣態物質在固態表面上進行化學反應生成與基體結合良好的固體沉積層的過程稱為化學氣相鍍（有時也有常壓下進行）。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質的過程稱為離子注入，如注硼等。
在靜電噴涂這個過程中，機械霧化的油漆顆粒帶負電，互相排斥，變得更加分散和均勻。因此，所形成的涂膜非常薄，具有良好的外觀和裝飾性，非常適合于面漆裝飾性建筑。
靜電噴涂好處優點分享
由于電場的吸引，帶電漆霧被有效地吸收并沉積在工件表面，不僅附著力高，而且均勻地分布在整個表面。涂料利用率可達百分之八十以上，這就節約了油漆。
與空氣噴涂以及高壓無氣噴涂來比較，漆霧顆粒的流動速度較慢，但霧的分散性小得多，改善了工作環境條件，有利于工人的健康。
靜電噴涂適用于自動化大規模生產，噴涂輸送鏈的高速度可達24m/min，是手工噴涂的6倍，對復雜工件的角部有良好的噴涂效果，工件拐角處的電荷密度，沉積的涂層較厚，在表面張力的作用下干燥后涂層仍足夠厚。
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