高真空方法 ：
真空鍍vacuum plating 真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較產品的功能性鍍層，例如作為內部屏蔽層使用。
(1)真空蒸發鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結合的金屬或非金屬覆蓋層的過程稱為真空蒸發鍍，簡稱真空鍍或蒸發鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。
(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強電場作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過程稱為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。
(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發源蒸出的粒子，經過輝光放電區部分電離，通過擴散和電場作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結合鍍覆層的過程稱為離子鍍，如鍍氮化鈦等。
(4)化學氣相鍍 在低壓下，利用氣態物質在固態表面上進行化學反應生成與基體結合良好的固體沉積層的過程稱為化學氣相鍍（有時也有常壓下進行）。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質的過程稱為離子注入，如注硼等。
電泳及靜電噴涂
1、電泳
工件作為一個電極放入導電的水溶性或水乳化的涂料中，與涂料中另一電極構成解電路。在電場作用下，涂料溶液中已離解成帶電的樹脂離子，陽離子向陰極移動，陰離子向陽極移動。這些帶電荷的樹脂離子，連同被吸附的顏料粒子一起電泳到工件表面，形成涂層，這一過程稱為電泳。
2、靜電噴涂
在直流高電壓電場作用，霧化的帶負電的油漆粒子定向飛往接正電的工件上，從而獲得漆膜的過程，稱為靜噴涂。
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